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工业上使用的EDI超纯水设备的供水，通常是城市管网的自来水和地下水，未经处理的供水容易在设备内部产生污垢，如何去除这些污垢成为人们热门的研究课题。
电路板超纯水设备清洗污垢方法：
1、倒换电极。
可以有效地减轻膜及阴极上的水垢，一般水垢沉积在浓水室阴极表面上,倒换电极后，浓水室、淡水室相应倒换造成水垢的不稳定状态,因而可以减轻结垢。
2、酸洗。
是消除沉淀的有效方法，水垢积到一定程度，就需要进行酸洗，酸洗一般采用循环酸洗，浓水,淡水和极水室一次酸洗的方法。
3、碱洗。
酸洗不能取出有机沉淀物，对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗，使有机物消除，碱洗可以利用酸洗系统进行，一般不另设装置。
4、定期拆洗。
采用上述方法不能回复除盐率时，应把EDI膜堆拆开清洗,重新组装一般1-1.5年电渗析需要拆洗一次。
造成超纯水设备膜块堵塞的原因有：
1、进水中含有大量的颗粒以及胶体等物质造成膜块污堵。
2、进水中含有大量的无机物造成膜块污染堵塞。
3、进水中含有大量的有机物造成EDI膜块堵塞。
4、进水中含有大量的微生物造成EDI膜块堵塞。
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